|
光催化效应是制备自清洁涂层最具吸引力的方法之一。光催化效应主要是利用半导体纳米粒子氧化钛或氧化钛与氧化硅的复合物光催化反应产生的高活性的氧化-还原电子对对微生物细菌及油性污染物的分解作用,使涂层表面在雨水作用下能够自清洁。近年来,日本A Fujishima等又发现了纳米二氧化钛由紫外光催化诱导的超亲水效应,超亲水效应使得污物能够很容易被雨水冲洗干净,并与光催化效应协同作用产生 “self-cleaning” 效果。单纯的二氧化钛涂层在紫外光照射下的水表面接触角接近零度,具有超亲水性,但是当紫外光照射停止后,其亲水性衰减很快,为此, Kaishu Guan通过向二氧化钛膜中添加一定量的纳米氧化硅使涂层能保持长时间的超亲水效应,并且还可降低光催化效应对有机涂膜的损伤。通过改变氧化硅的含量可调节涂层的光催化能力和亲水性强弱。
目前,光催化自清洁涂层已在卫生陶瓷、玻璃等无机涂层表面应用广泛,但是由于光催化对有机基料同样会产生不利的分解作用,也会加速涂膜自身分解,对可使用基料有所限制。如何平衡光催化产生的自清洁效应与对有机涂膜的负面损伤是目前光催化有机涂料亟待解决的问题。 |
|