标题: 氯化法钛白粉无机表面处理及影响因素 [打印本页] 作者: ucoat 时间: 2008-4-8 19:41 标题: 氯化法钛白粉无机表面处理及影响因素 钛白粉具有优异的光散射能力、高消色力和遮盖力等性能，但也存在着与生俱来的缺陷，其中最突出的是光化学活性，在有水分的情况下经日光照射（主要是近紫外光谱域），其晶格上的氧离子会失去两个电子变为氧原子 , 这种新生态氧具有极强的活性，造成涂膜中的有机物质氧化，使高分子有机物发生断链、降解，最终使涂膜粉化、失光、泛黄、变色，导致耐候性降低。其次，无论是通过硫酸法的水解和煅烧工艺，还是氯化法气相氧化工艺生产出来的二氧化钛都存在着一些晶格缺陷，即肖特基缺陷，其粒子表面上存在着许多光活化点，在一些微量杂质如 10 -6 ～ 10 -3 的 F e 、 Cr 、 V 等存在的情况下，会加速其光化学反应，从而引发自由基键反应而破坏涂膜等有机介质。另外，二氧化钛本质上是亲水憎油性物质，表面带负电荷，在有机介质中的分散性很差，会使涂料产生浮色、发花、絮凝和沉淀，这就给它在漆料中的应用造成很大困难。因此必须通过表面处理堵塞其光活化点，隔绝二氧化钛与光（ U V ）的直接接触，改善 T iO 2 粒子的表面化学性质，提高其应用性能。 1 表面处理的作用
从光学效果来看， T iO 2 的粒径应控制在 0.2 ～ 0.3 μ m 为最佳，在此粒径范围内颜料对可见光具有最大的散射力，可以获得最高的遮盖力、消色力和纯正的白度。但是这样小的粒径具有很大的比表面积，更易发生光化学反应，使颜料的抗粉化性较差。通过表面处理不仅解决了小粒径与抗粉化性的矛盾，而且发挥了小粒径卓越的光学性质和颜料性能优势。
就氯化法生产的钛白粉而言，从氧化工序得到的二氧化钛吸附有少量的 Cl 2 、 T iCl 4 、 T iO Cl 2 、 AlCl 3 等杂质，在与有机漆料混合后，会导致漆料高分子部分生成有色物质，致使白度下降，同时被涂覆的底板也会产生腐蚀作用，而通过表面处理可将杂质除去，这也是不经表面处理的氯化法二氧化钛粗品不能直接使用的原因之一。
近年来，开发高光泽、高耐候性、高分散性的优质多功能型钛白粉成为国内外二氧化钛工业发展的新趋向，而表面处理的基本目的就是提高二氧化钛颜料的耐候性、分散性和保色性，这正是任何一种优异的颜料不可缺少的基本性能。选用不同的表面处理剂，采用不同的处理方法，可以生产出不同用途的二氧化钛产品。因此表面处理早已成为各国钛白行业中技术人员长期研究和探讨的主要课题，成为新产品开发的主要手段。
2 表面处理概述
所谓表面处理是指通过不同的表面处理剂和处理工艺，在二氧化钛颜料粒子表面包覆一层或多层无机物或有机物的包膜层，以改善二氧化钛固有的缺陷或改变其颗粒的表面性质，提高它的耐候性、分散性等应用性能。二氧化钛的表面处理主要是通过等电点理论和稳定理论，采用沉淀、吸附、离子交换、共价键和高分子接枝反应对二氧化钛的表面进行改性，改性结果只涉及到表面电荷的变化、表面积变化，以弥补二氧化钛的光化学活性缺陷，提高二氧化钛的耐候性、耐久性 , 提高它在各种介质中的湿润性和分散性。但是表面处理无法改变二氧化钛的晶型结构、粒度、粒度分布和颜色几种特性（是由氧化工序所控制决定的）。
钛白粉的表面处理根据表面处理剂性质可以分为无机表面处理和有机表面处理两种；根据表面处理工艺可分为湿法和干法两大类型。一般无机表面处理采用湿法，有机表面处理大多采用干法。
无机表面处理是通过沉淀和吸附，在二氧化钛粒子表面上包上一层或多层无机水合氧化物，通常称为“包膜”。通过包膜可以堵塞晶格缺陷，遮蔽其表面的光活化点，使二氧化钛不直接与分散介质中的有机物接触，起到屏蔽光催化的作用，还可以增强钛白粉耐化学侵蚀的能力。无机表面处理最主要的功能是提高其耐候性和化学稳定性。而有机表面处理是通过有机表面活性剂极性基团吸附或键合在二氧化钛的粒子表面，依靠电斥力和空间位阻效应来提高二氧化钛在各种分散介质中的湿润性、分散性和流变性。但二者对于二氧化钛颜料的作用又是相互关联的，实践证明无机表面处理和有机表面处理共用效果会更佳。
现着重介绍目前工业上普遍采用的铝、硅、锆等几种无机金属水合氧化物（或氢氧化物）的氯化法钛白无机表面处理。
3 氯化法钛白无机表面处理工艺及原理
由氧化工序制得的二氧化钛粗品必须经过在水中制浆分散、研磨、分级操作后，才能进行无机包膜。因为浆料中的二氧化钛以原级粒子、聚集粒子、附聚粒子、絮凝粒子的形式存在，如果包膜前不进行分散研磨，就有可能是对聚集粒子或絮凝粒子的包膜，这种粒子团包膜物一经气流粉碎，包膜层被打碎，呈现的是一种残缺不全的包膜状态，而包膜最理想的状态是将包膜剂包在每一个原级粒子的表面，在包膜结束后，用气流粉碎机解聚时，保证每个粒子上都有完整的包膜层。因此无机表面处理前一定要充分分散研磨，以达到表面处理的最终目的。
3.1 分散
二氧化钛在水性介质中分散的好坏不仅影响包膜时的颗粒均匀性，而且直接影响颜料粒子对光的散射性能，从而影响颜料的光学性质和性能。
首先，为了满足研磨工艺高浓度的需要，一般分散浆料浓度控制在 500 g /L 以上。打浆分散用的水最好采用脱离子水（水中含有离子会使颗粒重新絮凝），水的电阻率应不低于 20 万Ω·ｃｍ。其次，分散时要具有良好的搅拌强度，一般认为搅拌的线速度为 186 m /min 时效果比较好。另外，为了解决高浓度分散性差的问题，一般分散时要用碱或其它分散剂来调整 pH 值，因为在碱性条件下，特别是当 pH 值为 9 ～ 11 时，二氧化钛在水中的分散性最好。常用的无机分散剂有碱金属的盐类或氢氧化物，如氢氧化钠、硅酸钠、六偏磷酸钠、磷酸三钠等。值得注意的是分散剂加入量过多有害，会使分散剂之间架桥而重新絮凝。
影响二氧化钛浆料分散效果的主要因素有二氧化钛的表面电荷、粒径大小、比表面积、表面自由能、 pH 值、表面吸附状态、亲介质性、二氧化钛与分散介质极性的平衡、分散介质的表面张力、浆料浓度、搅拌强度等。利用静电斥力的作用和双电层理论来保持二氧化钛浆料的分散稳定性是一个常用的行之有效的办法。
3.2 研磨（湿磨）
研磨（即湿磨）是无机表面处理前最有效的超微粉碎手段，其目的是将氧化反应物料打浆中形成的二氧化钛聚集体研磨成符合工艺要求的粒度。湿磨对浆料的浓度、温度、黏度、 pH 值、分散状态和装珠量都有一定的要求。通常浆料浓度控制在 600 ～ 1200g /L ，浆料 pH 值为 8 ～ 11 。氯化法钛白湿磨生产所采用的密闭立式砂磨机对其排料的温度也有严格的控制要求。
3.3 分级
分级就是分离浆料中的粗细颗粒，将分离出来的大颗粒聚集体返回，重新研磨。通过分级可以进一步获得具有一定粒度分布的二氧化钛分散体，粒度控制在 0.2 ～ 0.3 μ m 为最佳，并且围绕此粒度分布要狭窄。同时通过分级还可以除去被磨碎的细砂等机械杂质。在氯化法钛白表面处理工艺中采用湿法分级，主要设备是离心式分级器中的水力旋流器。分级操作最关键的因素是浆料的分散程度。如果分散不好，浆料呈絮凝状态，分级操作就很难进行。
3.4 包膜
包膜是钛白粉后处理工序中最关键、最难控制的一步，故氯化法钛白生产的整个包膜过程是采用先进的计算机集散控制系统进行操作的。包膜工艺操作的关键是 pH 值等条件的控制。通过对无机表面处理剂的添加量、添加顺序、包膜时的温度、 pH 值、速度、时间等的调整，可以改变二氧化钛包膜层的结构和疏松度，从而制得具有不同吸油量和遮盖力的颜料产品。常有的无机表面处理剂有以下几种：
3.4.1 氧化铝（ Al 2 O 3 ）
氧化铝包膜可以单独进行（单铝包膜），也可以与 SiO 2 、 T iO 2 、 ZrO 2 等一起进行复合包膜。铝包膜时一般先将铝包膜剂硫酸铝或偏铝酸钠配制成 100 ～ 200 g /L 的溶液，按 T iO 2 质量的 1.0% ～ 5.0% （以 Al 2 O 3 计）加入到具有一定浓度要求、分散好的二氧 化钛浆料中，用一定浓度的碱或酸在 1 ～ 2h 内缓慢而均匀地中和，使生成的氧化铝水合物沉淀到二氧化钛粒子表面，同时维持 pH 值在 8 ～ 10 ，控制反应温度在 50 ～ 80 ℃ ［ 1 ］ 。一般中和反应速度快，则生成海绵状膜，所得产品的遮盖力高，但吸油量也高；若反应速度慢，反应时间在 3h 以上，则获得均匀致密的膜层，生成产品的耐候性高。
铝包膜时的化学反应主要是中和沉淀反应，当采用硫酸铝以碱中和时，反应式如下：
当采用偏铝酸钠以酸中和时，反应式如下：
作者: wyj7506 时间: 2008-8-2 09:19
补充第二部分
铝包膜时所生成的水合氧化物，实际组分是勃姆石或假勃姆石型氧化铝（γ -AlO O H ）、水铝石（α -AlO O H ）和三羟铝石［γ -Al(OH ) 3 ］的混合物，当形成丝状或带状结构的勃姆石或假勃姆石型水合氧化铝时为最佳，可有利于颜料的分散。用氧化铝包膜的二氧化钛在漆料中与漆料中的酸性官能团反应生成盐类，在醇酸树脂中 Al 3+ 吸附在二氧化钛的表面，在有少量水存在时，铝盐离解成双电层，使二氧化钛粒子带正电荷，在其表面吸附一层树脂层，由于树脂层的保护作用，使颜料粒子起到分散作用。同时氧化铝膜在二氧化钛表面形成一层保护层，并反射部分紫外线，降低了钛白粉的光化学活性，提高了抗粉化性和保色性。
3.4.2 氧化硅 (SiO 2 )
硅包膜与铝包膜相比较为复杂，一般不单独进行，因为水合氧化硅之间存在着微弱的氢键，造成浆料过滤洗涤性能差，滤饼有蚀变性，甚至发生胶冻状假稠现象，因此，硅包膜通常与铝包膜、锆包膜等配合使用。致密性氧化硅包膜一般是先将硅包膜剂硅酸钠（ N a 2 SiO 3 ）溶液的碱金属离子浓度（以 N a 2 O 量计）维持在 0.1 ～ 0.3 mol/L , 大于 1 mol/L 会增强活性硅的凝聚倾向，按 T iO 2 质量的 1.0% ～ 10%( 以 SiO 2 量计 ) 的比例将硅酸钠溶液加入到具有一定浓度要求、 pH 值为 8 ～ 11 的二氧化钛浆料中，在此过程的同时用一定浓度的酸缓慢中和，维持浆料 pH 值在 8 ～ 11 ［ 2 ］ ，使硅以氢氧化硅的形式沉淀于二氧化钛粒子表面。如果中和反应速度快就会生成很多 SiO 2 的砂状粒子，不能沉积在二氧化钛表面，当进一步增加活性硅数量时，砂粒争先吸附活性硅，破坏了致密膜的包覆过程，故反应时间一般在５ h 左右。致密硅沉淀反应温度要控制在 80 ～ 100 ℃，低于 60 ℃ 难以形成致密膜。在整个包膜过程中，要保持均匀的反应条件，硅酸钠和酸溶液最好采用分散淋加的方式，并配以良好的搅拌，避免局部 pH 值过高或过低，生成分散的游离硅胶。
硅包膜不是纯粹的物理沉淀式包膜，而是一种化学结合。硅包膜的化学反应式如下：
